供應金屬與化合物製作成不同形狀與型態之金屬蒸鍍源,如slug顆粒類、錠狀lump、或者濺鍍靶材sputterring targe
(1) 貴金屬及其合金,如金Au、銀Ag、鉑Pt、銠Rh、銥Ir、釕Ru等等。
(2) 一般金屬及其合金,如鈦Ti、鋁Al、鎳Ni、鉻Cr、鎢W、鉬Mo、鉭Ta、錫Sn、鍺Ge、銦In等等。
(3) 化合物半導體材料,SiO2、TiO2、Ti3O5、Nb2O5、Ta2O5等等。
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(1) Silicon wafer 矽晶圓, 2", 3", 4", 5", 6", 8"等等。
(2) GaAs wafer 砷化鎵晶圓 2", 3", 4" 等等
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(1) 鎢W、鉬Mo、氮化硼BN、石墨Graphite等材質之坩鍋與蒸鍍舟。
(2) 石英監控片crystal sensor 5Mhz & 6Mhz
(3) 純金線與合金線,線徑0.7~2.0mil。
(4) 其他e-beam與濺鍍機台耗件。
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